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发布时间:2022-01-11 03:57:40
PVD是物***相沉积的简称,是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上真空镀膜。利用物理过程实现物质转移,在工件表面形成具有特殊性能的金属或化合物涂层,其特殊性能包括强度高、耐磨性、散热性、耐腐性、以及绝缘等。涂层的物质源是固态物质,利用气体放电或加热的方式使靶材蒸发或者电离,经过“蒸发或者溅射”后,在电场的作用下,在工件表面生成与基材性能不同的固态物质涂层。
在日常的操作中,有些用户由于其操作不当导致镀膜效果欠佳的问题,在PVD真空镀膜过程中,镀膜机腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时,采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力,从而提升终等离子气相沉积(PVD)的结果。
离子源类型虽多,目的却无非在线清洗,改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度,同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层,一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高,可采用离子电流较大能级也较高的离子源,如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源,与霍尔离子源原理近似。在一条环形(长方形或圆形)窄缝中施加强磁场,在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长,特别适合镀大工件,如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散,且能级分布太宽。一般适用于大型工件,玻璃,磨损,装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。
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