云浮派瑞林镀膜设备推荐「菱威纳米」

       铁氧体磁性材料及稀土永磁：高导磁软磁铁氧体小磁芯体积小、性能高、用量大；这些产品的表面必须采用派瑞林（Parylene）来涂上一层保护层，以增强产品表面的绝缘性、坚固性、光滑性。但是这类产品表面的耐腐蚀要求非常高。普通的电镀、电泳处理的后的产品的耐盐雾时间仅能达到70-100小时。而采用派瑞林（Parylene）可以达到300-500小时。

       钕铁硼稀土磁性材料是一种问世不久的新型强磁材料。近年来在小型马达、汽车电子，工具、扬声器、电力工具等方面应用发展很快。但钕铁硼稀土磁性材料较大的弱点是容易被空气中的水分及氧气所腐蚀，因此必须有一个的防护涂层钕铁硼稀土磁性材料才有使用价值。

       对于电子产品防腐蚀处理，常见的一般为传统的三防处理。传统三防材料一般是通过喷涂或电镀的方式来完成的，常见的传统三防材料有聚氨酯、环氧树脂、UV胶、有机硅、类，这些材料分子颗粒较大，喷涂之后形成的膜层不够致密，很容易让有腐蚀性的液体或气体分子进入，腐蚀金属表面，影响正常工作。

　　聚对涂敷是由活性的对双游离基小分子气在印制电路组件外观沉蕴蓄合完成。气态的小分子能渗透到包括贴装件下面任何一个微小缝隙的基材上沉积，形成分子量约50万的高纯聚合物。它没有助剂、溶剂等小分子，自己的化学惰性也不会对基材形成***。

　　　关于Parylene涂层提供的保护能力的一项关键的测试是将电路板上测试对象进行涂敷，并且在一种温度——湿度循环下进行绝缘阻抗测试。即使对于非常薄的涂层（0.0001英寸），绝缘阻抗值也比规定的规格高出一个数量级。

       物***相沉积技术指的是在真空条件下，将原材料气化成气态原子、分子或部分电离成离子，在基材表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。物***相沉积技术可沉积金属膜、合金膜、陶瓷、化合物膜、聚合物膜等。

       PVD技术可用于半导体领域导电薄膜的制备，例如晶圆制造过程中电极互连线膜的制备。PVD技术能以金、银、铜、铝、铬、镍和铁等金属或无机非金属材料为原料，形成纳米级别的薄膜，改变基材表面的光学特性。在光伏领域可用于减少光线反射，提高光电转换效率；在电子消费品领域可用于改变电子产品显示屏幕的分辨率、透光率。另外，PVD技术通常还用于改变基材色泽、外观，用五金件上镀上不同的颜色，做为装饰用途。